BENEFIT COSMETICS The Porefessional Deep Retreat Clay Mask Näomask
Tootekirjeldus
BENEFIT COSMETICS Pore Care Clay Mask
(Näomask)
Savimask Benefit The POREfessional DEEP RETREAT Pore-Clearing Clay Mask puhastab nahka sügavalt ja avab ummistunud poorid, eemaldab liigse rasu ning annab näonahale loomulikult mati ja terve välimuse. Eemaldage näonahalt liigne rasu ja taastage naha terve välimus. Maskis sisalduv mineraaliderohke kaoliin puhastab ummistunud poore ning jojoba- ja ploomikiviõli toidavad näonahka ja muudavad selle sametiselt pehmeks.
Kasutamine
Kandke iga nädal ühtlase kihina puhtale ja kuivale näo- ja kaelanahale. Laske mõjuda 30 minutit või nii kaua, kuni mask on täiesti kuiv. Loputage maha. Vältige silma- ja suupiirkonda.
Koostisosad
Koostisosad:
INGREDIENTS: AQUA (WATER), KAOLIN, SILICA, GLYCERIN, BUTYLENE GLYCOL, PENTYLENE GLYCOL, CI 77007 (ULTRAMARINES), PEG-40 SORBITAN PEROLEATE, SODIUM ACRYLATES COPOLYMER, CAPRYLIC/CAPRIC TRIGLYCERIDE, CI 77499 (IRON OXIDES), HYDROXYACETOPHENONE, LECITHIN, MICA, CHLORPHENESIN, BISABOLOL, CI 77491 (IRON OXIDES), HYDROGENATED VEGETABLE OIL, OPUNTIA COCCINELLIFERA FLOWER EXTRACT, CI 77891 (TITANIUM DIOXIDE), TRISODIUM ETHYLENEDIAMINE DISUCCINATE, SIMMONDSIA CHINENSIS (JOJOBA) SEED OIL, PRUNUS DOMESTICA SEED OIL, PARFUM (FRAGRANCE), DISODIUM PHOSPHATE, POTASSIUM HYDROXIDE, XANTHAN GUM, CRITHMUM MARITIMUM EXTRACT, 1,2-HEXANEDIOL, CAPRYLYL GLYCOL, TOCOPHEROL, CI 77510 (FERRIC FERROCYANIDE), SODIUM PHOSPHATE, SPHINGOLIPIDS, SPHINGOMONAS FERMENT EXTRACT, TOCOPHERYL ACETATE, CITRIC ACID, PENTAERYTHRITYL TETRA-DI-T-BUTYL HYDROXYHYDROCINNAMATE, SODIUM CITRATE. N° 16588
Tähelepanu! Toote koostis võib olla muutunud. Enne toote kasutamist kontrollige palun koostisosi. Kõige täpsema ja ajakohaseima koostisainete loetelu leiate tootepakendilt.
Hoiatused
Benefit Cosmetics
3-5 rue St-Georges 75009 Paris - France
www.benefitcosmetics.com/en-us/contact-us
